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[发明专利]金属掩模板张紧机-CN201310073662.7无效
发明人：唐军 -专利权人：唐军;钱超
申请日： 2013-03-08 - 公布日： 2013-06-12 - 主分类号： B23K37/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种金属掩模板张紧机，包括张紧装置，张紧装置包括用于夹紧金属掩模板的夹紧机构、水平调节机构和张力调节机构，夹紧机构包括适于夹紧金属掩模板四条边的多个独立设置的夹片；水平调节机构与夹紧机构连接，对金属掩模板在水平方向上的张力进行粗调；张力调节机构设置于夹紧机构上，对金属掩模板在水平方向上的张力进行微调。本发明可使金属掩模板在焊接到板框前可以实现精确的固定和张紧，不会变形，有效加快了金属掩模板的焊接效率，提高了金属掩模板的焊接精度，从而提高了OLED的生产质量。
金属模板张紧机

[发明专利]制造掩模组件的方法-CN202310182278.4在审
发明人：金辉;金桢国;宋昇勇;李娥凛;赵恩翡;黄圭焕 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2023-02-20 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：公开了掩模组件的制造方法。所述掩模组件的制造方法包括以下步骤：将掩模片张紧；将张紧的掩模片与掩模框架连接；以及在张紧的掩模片中限定开口加工区域以形成分别对应于开口加工区域的开口。限定开口加工区域的步骤包括：在第一方向和与第一方向交叉的第二方向上在张紧的掩模片中限定初始开口加工区域，以确定初始开口加工区域的加工顺序；基于加工顺序，计算在初始开口加工区域中的每个中累积的累积变形量；
制造模组方法

[发明专利]一种掩模网张网装置、蒸镀装置、张网方法及蒸镀方法-CN201710524595.4在审
发明人：李喆;肖鹏飞;李志丹;唐世弋;李会丽 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2017-06-30 - 公布日： 2019-01-15 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩模网张网装置、蒸镀装置、张网方法及蒸镀方法，该张网装置包括张力施加机构，带动掩模网相对的两侧相背或相向运动；导向机构，为掩模网运动提供导向；掩模网形貌测量单元，与所述掩模网的位置对应；张力控制单元，与所述掩模网形貌测量单元和张力施加机构连接。通过掩模网形貌测量单元测量掩模网的平坦度和下垂形变量，通过张力控制单元对上述测量的数据进行拟合，得到所要控制的张紧力大小，并对张力施加机构进行控制，同时张力施加机构带动所述导向机构移动，向掩模网施加规定的张紧力，不仅解决了掩模网下垂的问题，同时实现了对掩模网张紧力的自动调节和控制，提高控制精度，降低了掩模网的报废率和制造成本，提高了良率。
掩模张力施加机构形貌测量单元张网装置张紧力张力控制单元导向机构蒸镀装置下垂张网蒸镀自动调节和控制测量掩模相向运动制造成本报废率平坦度网运动形变量良率拟合相背测量施加移动

[实用新型]一种掩模带裁切机用张紧装置-CN202320552874.2有效
发明人：吴家麟;伍秀月 -专利权人：江门市优彼思半导体材料有限公司
申请日： 2023-03-18 - 公布日： 2023-06-20 - 主分类号： B26D7/14 文献下载
摘要：本申请涉及一种掩模带裁切机用张紧装置，属于电子元器件引线框架电镀的技术领域，其包括机架和主动辊，主动辊转动连接于机架上，机架上还安装有一号驱动件，一号驱动件与主动辊连接并驱动主动辊旋转，在机架上还转动安装有从动辊，主动辊和从动辊之间设置有张紧组件，张紧组件安装于机架上，机架上还安装有二号驱动件，二号驱动件与张紧组件连接，所述二号驱动件可驱动张紧组件推动掩模带向远离主动辊和从动辊的方向运动。本申请具有提高裁切机加工剪切更大直径范围内的掩模带的效果。
一种掩模带裁切机用张紧装置

[发明专利]淀积掩模框架组件及其制造方法、有机电致发光器制造方法-CN200310124813.3有效
发明人：重村莘治 -专利权人：三星日本电气移动显示株式会社
申请日： 2003-11-22 - 公布日： 2004-10-06 - 主分类号： H05B33/10 文献下载
摘要：涉及一种淀积掩模框架组件，这种淀积掩模框架组件的制造方法，以及利用淀积掩模框架组件制造有机电致发光器件的方法。所述淀积掩模框架组件包括一掩模、一框架和一掩模上盖，掩模具有在其上形成孔的预定图形的薄板，框架支撑掩模的一侧表面使掩模张紧，掩模上盖支撑着掩模相反的一侧表面，并且上盖的形状相应于框架。
淀积掩模框架组件及其制造方法有机电致发光

[发明专利]掩模支撑框架和具有掩模支撑框架的掩模组件-CN201310174953.5有效
发明人：金容焕 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2013-05-13 - 公布日： 2016-11-30 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：提供了一种用于支撑掩模的掩模支撑框架，所述框架被配置为固定掩模的两个端部并沿第一方向向所述掩模施加张力。所述框架包括：框架主体，限定用于暴露所述掩模的构图开口区的开口；以及端部张紧器，联接至所述框架主体，并被配置为沿与所述第一方向相交的第二方向向所述掩模的两个端部之一施加张力。
支撑框架具有模组

[发明专利]通用对准适配器-CN201680001950.3在审
发明人：戴维·N·蒙托;布莱恩·阿瑟·布奇;童圣智;田村信彦;惠滕·E·小利特尔 -专利权人：阿德文泰克全球有限公司
申请日： 2016-10-26 - 公布日： 2018-07-03 - 主分类号： H01J29/07 文献下载
摘要：在阴影掩模张紧方法和设备中，由支撑框架支撑的阴影掩模定位在阴影掩模框架与一组致动器之间，阴影掩模的一部分延伸跨过支撑框架与阴影掩模框架之间的间隙。在编程控制器的控制下，使一组致动器同时地将阴影掩模的一部分的多个间隔开的部位偏移到间隙中，以使阴影掩模的对准孔与定位成观察对准孔的相机的视场中的预定位置对准。然后，将阴影掩模固接到阴影掩模框架。
阴影掩模支撑框架对准孔致动器方法和设备程控制器通用对准预定位置适配器偏移视场张紧对准跨过相机观察延伸支撑

[发明专利]阴影掩模张紧方法和设备-CN201580035532.1有效
发明人：布莱恩·阿瑟·布奇 -专利权人：阿德文泰克全球有限公司
申请日： 2015-04-17 - 公布日： 2019-03-15 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：在阴影掩模张紧系统和方法中，将具有第二组对准特征件的对象定位在具有第一组对准特征件的阴影掩模的一侧上，使得所述对象和所述阴影掩模能够彼此独立地移动，并且所述第一组对准特征件与所述第二组对准特征件未最终对准然后，将张力施加到阴影掩模上，以使第一组对准特征件与第二组对准特征件最终对准。所述阴影掩模的对准特征件可包括所述阴影掩模的至少一个沉积孔。
阴影掩模张紧方法设备

[发明专利]成膜掩模的制造方法-CN201480014059.4有效
发明人：斋藤雄二;工藤修二;小菅崇之;水村通伸 -专利权人：株式会社V技术
申请日： 2014-02-17 - 公布日： 2017-06-23 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明是将形成了多个开口图案的金属掩模片(4)张紧而固定于框状的金属框架7上的结构的成膜掩模的制造方法，进行如下步骤第1步骤，在被施加一定张力的合成纤维的网(1)上粘接金属掩模片(4)的周缘部；第2步骤，将与金属掩模片(4)的内含多个开口图案的大小的成膜有效区域对应的网(1)的部分切除；第3步骤，在金属掩模片(4)的周缘部从与网(1)相反的一侧接合、固定框架(7)；以及第4步骤，将网(1)从金属掩模片
成膜掩模制造方法

[发明专利]用于平板显示器的薄膜气相沉积的掩模组件-CN200810161408.1无效
发明人：成栋永;金和正 -专利权人：三星移动显示器株式会社
申请日： 2008-09-25 - 公布日： 2009-05-27 - 主分类号： C23C16/04 文献下载
摘要：本发明公开一种用于平板显示器的薄膜气相沉积的掩模组件。在掩模组件中，清洗该掩模组件以后残留在单元掩模和框架之间的间隙中的清洗液可被最少化。掩模组件包括框架和多个单元掩模。多个单元掩模具有至少一组图案开口，多个单元掩模被固定在第一支撑部上，同时多个单元掩模上施加有张紧力。第一支撑部包括第一表面和第二表面。多个单元掩模被固定在第一表面上，并且，第二表面从第一表面沿多个单元掩模的厚度方向具有相对第一表面的高度差。
用于平板显示器薄膜沉积模组

[发明专利]一种掩模板清洗工艺-CN202211632084.1有效
发明人：熊志红;朱峰;郑思温 -专利权人：深圳仕上电子科技有限公司
申请日： 2022-12-19 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： G03F1/82 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩模板清洗工艺，所述清洗工艺所采用的清洗装置包括清洗箱，所述清洗箱上对称安装有输送带，所述输送带之间设置有携带机构，所述携带机构连接有掩模板且沿着输送带将掩模板送入清洗箱内，所述携带机构与掩模板之间设置有张紧组件，所述装夹组件与携带板之间设置有翻转组件，所述清洗箱内还设置有去膜机构、转位机构以及干冰清洗机构；本发明通过干冰清洗机构对掩模板上的粘接胶进行迅速降温处理，经过降温后的粘接胶粘性降低并固化，且与掩模板之间分层，经过高速吹风机的吹动下，实现对掩模板表面粘胶的可靠清洗处理，清洗过程中没有外物与掩模板的表面接触，不会造成掩模板表面的磨损，延长掩模板的寿命周期。
一种模板清洗工艺

[实用新型]掩模板组件的张网装置以及张网系统-CN202320329013.8有效
发明人：蒋雷;康报虹 -专利权人：惠科股份有限公司
申请日： 2023-02-21 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： B23K3/08 文献下载
摘要：本申请提供一种掩模板组件的张网装置以及张网系统，涉及掩模板张网技术领域。张网装置包括第一施力模块和第二施力模块，第一施力模块设置在掩模板组件的相对两端，第一施力模块用于向掩模板组件提供张拉力。掩模板组件位于掩模板框架之上，第二施力模块设置在与掩模板组件的水平面垂直的方向上，第二施力模块用于在第一施力模块对掩模板组件提供张拉力的情况下，向掩模板组件提供与掩模板组件的重力方向相反的力。本申请中由于抵消了掩模板组件的重力，因此降低第一施力模块施加的张拉力的大小。当张拉力减小后，减弱了掩模板组件对掩膜板框架的作用力，这样在焊接之后，减少了因张拉力消失掩模板组件产生的反作用力对掩膜板框架造成的翘曲变形。
模板组件装置以及系统

[发明专利]用于对环形带进行结构化钝化的方法和装置-CN201680091391.X在审
发明人： M·比亚克;D·法斯特 -专利权人：百德福钢带有限公司
申请日： 2016-12-07 - 公布日： 2019-07-19 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于对环形带(2)进行结构化钝化的方法，在该方法中，所述环形带(2)在至少两个导向辊(3、4、9、10)之间张紧并且借助喷头/打印头(5、51、52)用数字喷射印刷法施加将掩模到环形带(2掩模施加在导向辊(3、4、9、10)的区域中进行。在另一个步骤中，利用适于硬化的光源(7)照射至少部分地由可用光硬化的掩模材料制成的掩模并使其硬化。
环形带结构化钝化掩模硬化导向辊喷头施加方法和装置喷射印刷掩模材料打印头可用光张紧光源照射

[发明专利]掩模单元及具有该掩模单元的掩模板组件-CN201910021082.0有效
发明人：王志祥;沈阳;王国兵;康梦华;叶訢 -专利权人：昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司;昆山国显光电有限公司
申请日： 2019-01-09 - 公布日： 2020-01-14 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供了一种掩模单元及具有该掩模单元的掩模组件，其中所涉及的掩模单元包括镀膜区，镀膜区具有多个供蒸镀成型像素的蒸镀开口，掩模单元还包括第一辅助区，第一辅助区具有邻接镀膜区至少一侧边设置的第一侧边部，每一第一侧边部包括一排由该侧边部内侧向外侧延伸形成的第一开口，第一开口于其延伸形成方向上的宽度尺寸逐渐减小；本发明掩模单元中的镀膜区通过第一辅助区与其周边区域连接，基于第一辅助区中第一开口的渐变形态，可以有效降低掩模单元镀膜区与其周边区域交界位置处的折伤概率；且由于第一辅助区的应力释放作用，在掩模单元张紧过程中能够有效减少镀膜区内蒸镀开口的位置偏移量，从而提高蒸镀开口的整体精度。
掩模单元镀膜区辅助区开口蒸镀侧边部周边区域应力释放作用位置偏移量掩模板组件交界位置外侧延伸掩模组件有效减少逐渐减小渐变邻接镀膜像素张紧成型概率延伸

[发明专利]印网掩模-CN200710104748.6无效
发明人：柳原直人;瀬户政行;中岛干雄;牛房信之 -专利权人：富士通日立等离子显示器股份有限公司
申请日： 2007-04-26 - 公布日： 2008-05-07 - 主分类号： B41F15/36 文献下载
摘要：本发明的印网掩模包括具有张紧力范围为196～392N/mm的丝网(2)；张紧力范围为49～98N/mm的张力网(3)；以包围丝网(2)的外周的方式进行配置，张紧力范围为392～980N/mm，固定张力网
印网掩模

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